2021年，國內(nèi)光刻膠市場還有哪些驚喜？
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光刻膠研制專利在一定程度上反映了企業(yè)甚至國家在該產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的核心技術(shù)實力，同時也折射出光刻膠產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的未來方向。我國光刻膠技術(shù)近些年才開始進行產(chǎn)業(yè)布局，但已有一定的突破，當前，國內(nèi)大型公司紛紛進入光刻膠領(lǐng)域，其中上市公司就有南大光電、晶瑞股份、上海新陽、彤程新材、廣信材料、普利特、恒坤股份等。此前還有官方消息，華為在《光敏性聚酰亞胺光敏劑及相關(guān)小分子助劑的合成及應用研究》科研課題招聘博士后。
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* 光敏劑是光刻膠生產(chǎn)的主要原材料之一，在光刻膠生產(chǎn)總成本中占比達到60%。
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今年以來，更是有企業(yè)不斷布局，切入光刻膠領(lǐng)域，如華懋科技、圣泉集團、世名科技、彤程新材和晶瑞股份等。華懋科技投資5.8億元，切入光刻膠領(lǐng)域
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1月3日，華懋科技旗下產(chǎn)業(yè)基金——東陽凱陽科技創(chuàng)新發(fā)展合伙企業(yè)對外投資公告稱，東陽凱陽于2020年12月30日，與傅志偉、上海博康、徐州博康簽署了《投資協(xié)議》及其附屬文件。華懋科技通過東陽凱陽對徐州博康進行投資，將切入半導體關(guān)鍵材料光刻膠領(lǐng)域。圣泉集團IPO過會，擬募資12億布局光刻膠上游材料等
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1月7日，中國證券監(jiān)督管理委員會召開第十八屆發(fā)行審核委員會2021年第4次發(fā)審委會議，濟南圣泉集團股份有限公司（首發(fā)）獲通過。
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光刻膠研制專利在一定程度上反映了企業(yè)甚至國家在該產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域的核心技術(shù)實力，同時也折射出光刻膠產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的未來方向。我國光刻膠技術(shù)近些年才開始進行產(chǎn)業(yè)布局，但已有一定的突破，當前，國內(nèi)大型公司紛紛進入光刻膠領(lǐng)域，其中上市公司就有南大光電、晶瑞股份、上海新陽、彤程新材、廣信材料、普利特、恒坤股份等。此前還有官方消息，華為在《光敏性聚酰亞胺光敏劑及相關(guān)小分子助劑的合成及應用研究》科研課題招聘博士后。
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* 光敏劑是光刻膠生產(chǎn)的主要原材料之一，在光刻膠生產(chǎn)總成本中占比達到60%。
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今年以來，更是有企業(yè)不斷布局，切入光刻膠領(lǐng)域，如華懋科技、圣泉集團、世名科技、彤程新材和晶瑞股份等。華懋科技投資5.8億元，切入光刻膠領(lǐng)域
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1月3日，華懋科技旗下產(chǎn)業(yè)基金——東陽凱陽科技創(chuàng)新發(fā)展合伙企業(yè)對外投資公告稱，東陽凱陽于2020年12月30日，與傅志偉、上海博康、徐州博康簽署了《投資協(xié)議》及其附屬文件。華懋科技通過東陽凱陽對徐州博康進行投資，將切入半導體關(guān)鍵材料光刻膠領(lǐng)域。圣泉集團IPO過會，擬募資12億布局光刻膠上游材料等
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1月7日，中國證券監(jiān)督管理委員會召開第十八屆發(fā)行審核委員會2021年第4次發(fā)審委會議，濟南圣泉集團股份有限公司（首發(fā)）獲通過。
1月18日，世名科技發(fā)布公告稱，公司審議通過了《關(guān)于對外投資暨簽訂入?yún)^(qū)協(xié)議的議案》，同意公司與馬鞍山慈湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)管理委員會簽訂《入?yún)^(qū)協(xié)議》，并使用自有或自籌資金2.2億元，在馬鞍山慈湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)投資建設(shè)“年產(chǎn)56000 噸先進光敏材料及1000噸光刻膠納米顏料分散液項目”。項目產(chǎn)品主要包括30000噸光聚合單體、20000噸高性能樹脂、1000噸光刻膠納米顏料分散液、6000噸 UV 納米顏料色漿。本項目由蘇州世名科技股份有限公司在馬鞍山慈湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)新設(shè)立的全資子公司負責實施。項目公司注冊資本10,000萬元。項目計劃總投資22,000萬元，其中固定資產(chǎn)投資18,000萬元，流動資金4,000萬元。預計2022年9月30日前建設(shè)完成，全部達產(chǎn)后，預計可實現(xiàn)年收入75,000萬元人民幣。晶瑞股份7000萬引入ArF光刻機，研發(fā)28nm高端光刻膠
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1月19日，晶瑞股份發(fā)布了“關(guān)于購買光刻機設(shè)備進展情況的公告”。公告表示，為開展集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目，經(jīng)公司多方協(xié)商、積極運作，順利購得ASML XT 1900 Gi型光刻機一臺。采購的光刻機設(shè)備為 ASML XT 1900 Gi 型 ArF 浸入式光刻機，可用于研發(fā)最高分辨率達 28nm 的高端光刻膠。該設(shè)備于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。1月23日投資1.5億，山東科萊福光電科技有限公司年產(chǎn)1600t光刻膠核心材料項目簽約落戶山東。該項目總投資1.5億元，建筑面積3萬平方米，計劃打造國內(nèi)唯一、世界第二的包含顏料綠G58生產(chǎn)的新材料生產(chǎn)基地。
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2月24日，彤程新材全資子公司彤程電子與舟山寧雨簽訂了《股權(quán)轉(zhuǎn)讓協(xié)議》，根據(jù)科華微電子的資產(chǎn)評估結(jié)果，北京科華微電子材料有限公司股東全部權(quán)益價值評估值為 65,000 萬元，以該評估結(jié)果為基礎(chǔ)，最終彤程電子以4,365萬元的價格受讓舟山寧雨持有的科華微電子6.72%股權(quán)。
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產(chǎn)業(yè)研究與顧問公司勢銀（TrendBank）表示，當前光刻膠產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化趨勢愈發(fā)明朗，上游光刻膠專用化學品需同步跟進國產(chǎn)化布局，以滿足下游光刻膠生產(chǎn)需求。隨著面板產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)的轉(zhuǎn)移，在面板顯示領(lǐng)域重點推動彩色及黑色光刻膠的國產(chǎn)化，同時國內(nèi)對TFT正性光刻膠的需求將加大。另外，順應半導體納米級工藝技術(shù)的進程，可以重點關(guān)注國內(nèi)ArF光刻膠以及 EVU膠的開發(fā)進度。
來源：勢銀膜鏈
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