三星將引入Inpria無機光刻膠，再次推動供應多元
據(jù)外媒報道，三星正致力于推動光刻膠供應多元化的實現(xiàn)，計劃在今年之內(nèi)導入Inpria的無機光刻膠，目前已經(jīng)完成性能評估，有望應用于5nm超精細工藝制程。光刻膠及其配套化學品占半導體材料產(chǎn)值12%，全球市場規(guī)模近百億美元，行業(yè)技術壁壘和客戶壁壘高，目前主要被日本、韓國和歐美國家壟斷。勢銀（TrendBank）統(tǒng)計分析，2020年全球半導體及顯示光刻膠市場規(guī)模到達44億美元，預計未來2-3年內(nèi)將保持年均7%的增速增長，預計2022年將超50億美元。據(jù)悉，Inpria是全球唯一制造無機光刻膠的企業(yè)，能夠幫助實現(xiàn)超精細半導體電路。三星計劃加強EUV工藝實力，而光刻膠領域對日本依賴又比較嚴重，因此其積極推動光刻膠供應多元化。
?Inpria擁有差異化性能的光刻膠技術，同時專注于EUV曝光工藝。Inpri作為EUV時代超精細半導體工藝的核心材料備受關注，臺積電、英特爾、SK海力士等全球半導體公司以及包括三星電子在內(nèi)的應用材料公司都對其進行了投資并支持其商業(yè)化。三星電子對Inpria EUV光刻膠的應用，被解讀為強化超精細代工工藝。由于Inpria EUV 光刻膠在實現(xiàn)超精細電路方面有實力，可以顯著改善EUV工藝中無意出現(xiàn)的缺陷，三星電子有望加強超精細半導體工藝，尤其是目前使用EUV最多的代工工藝。值得注意的是，Inpria產(chǎn)品的推出，將使三星的 EUV光刻膠供需多元化。以日本為中心，預計將對行業(yè)產(chǎn)生重大影響。無機光刻膠不僅對系統(tǒng)半導體有效，而且對存儲器的EUV工藝也有效，因此預計未來三星將擴大其用途。
?近日，據(jù)BusinessKorea消息，三星SDI已開始開發(fā)半導體光刻膠 (PR)。公司此舉旨在將幾乎被日本壟斷的半導體光刻膠的生產(chǎn)內(nèi)部化，并尋求使其電子材料業(yè)務部門的簡單產(chǎn)品組合多樣化。據(jù)悉，該部門最近為其研究中心引入了用于PR開發(fā)的8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設備以支持光刻膠開發(fā)事業(yè)。另外，今年6月2日，據(jù)韓網(wǎng)報道，隨著三星將其 3D NAND** 從第 6 代升級到第 7 代，韓國化學公司 Miwon Commercial（美源商事株式會社，簡稱Miwon）?可能會向三星提供更多的KrF光刻膠原料。
來源：勢銀膜鏈
Inpria擁有差異化性能的光刻膠技術，同時專注于EUV曝光工藝。Inpri作為EUV時代超精細半導體工藝的核心材料備受關注，臺積電、英特爾、SK海力士等全球半導體公司以及包括三星電子在內(nèi)的應用材料公司都對其進行了投資并支持其商業(yè)化。三星電子對Inpria EUV光刻膠的應用，被解讀為強化超精細代工工藝。由于Inpria EUV 光刻膠在實現(xiàn)超精細電路方面有實力，可以顯著改善EUV工藝中無意出現(xiàn)的缺陷，三星電子有望加強超精細半導體工藝，尤其是目前使用EUV最多的代工工藝。值得注意的是，Inpria產(chǎn)品的推出，將使三星的 EUV光刻膠供需多元化。以日本為中心，預計將對行業(yè)產(chǎn)生重大影響。無機光刻膠不僅對系統(tǒng)半導體有效，而且對存儲器的EUV工藝也有效，因此預計未來三星將擴大其用途。