擴(kuò)產(chǎn)能！上海新陽擬5.8億投建光刻膠等集成電路關(guān)鍵工藝材料項(xiàng)目
上海新陽于2月14日晚間發(fā)布公告表示，公司擬與上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)管理委員會(huì)、上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)發(fā)展有限公司簽訂《投資意向協(xié)議》，變更全資子公司上海芯刻微材料技術(shù)有限責(zé)任公司注冊(cè)于上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)，并啟動(dòng)位于上?；瘜W(xué)工業(yè)區(qū)的項(xiàng)目（以下簡(jiǎn)稱“項(xiàng)目”）建設(shè)，該項(xiàng)目主要用于開發(fā)集成電路關(guān)鍵工藝材料，總投資金額約為58000萬元人民幣。
據(jù)悉，項(xiàng)目預(yù)計(jì)年產(chǎn)500噸I線、KrF、ArF 干/濕法光刻膠；年產(chǎn)10000噸光刻膠稀釋劑；年產(chǎn)5000噸高選擇比氮化鈦刻蝕液系列產(chǎn)品；年產(chǎn)15000噸干法蝕刻清洗液系列產(chǎn)品。項(xiàng)目擬于2023年取得施工許可證，2025年底前竣工，2026年6月底前投產(chǎn)。上海新陽表示，為了進(jìn)一步鞏固在國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料行業(yè)的領(lǐng)先地位，實(shí)現(xiàn)我國(guó)集成電路關(guān)鍵工藝化學(xué)材料的自主可控，公司目前需要擴(kuò)大產(chǎn)能以滿足未來客戶需求。項(xiàng)目投產(chǎn)將使公司清洗液系列產(chǎn)品、光刻膠系列產(chǎn)品、刻蝕液系列產(chǎn)品的產(chǎn)能獲得極大提高。本項(xiàng)目建設(shè)符合公司長(zhǎng)期發(fā)展的戰(zhàn)略需求。此外，上海新陽在2月16日的投資者問答中回復(fù)，公司上海本部、合肥基地的光刻膠規(guī)劃年產(chǎn)能為1000多噸。
上海新陽主攻KrF和干法ArF光刻膠，已經(jīng)進(jìn)入產(chǎn)能建設(shè)階段。據(jù)2020年11月3日定增預(yù)案顯示，公司擬定增募資不超過14.50億元，其中8.15億元擬投資于集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目，主要目標(biāo)為實(shí)現(xiàn)ArF干法工藝使用的光刻膠和面向3D NAND臺(tái)階刻蝕的KrF厚膜光刻膠的產(chǎn)業(yè)化，力爭(zhēng)于2023年前實(shí)現(xiàn)上述產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白。2021年6月，上海新陽宣布，該公司自主研發(fā)的KrF（248nm）厚膜光刻膠產(chǎn)品通過了客戶認(rèn)證，并成功取得訂單，其中通過認(rèn)證的KrF光刻膠產(chǎn)品客戶數(shù)量不斷增加，已進(jìn)入國(guó)內(nèi)主流芯片制造公司。目前除ArF光刻膠外，上海新陽EUV光刻膠基本的研發(fā)工作正在進(jìn)行中；KrF光刻膠已有訂單客戶超3家。據(jù)其最新財(cái)報(bào)顯示，上海新陽去年第三季度實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入32,776.16萬元，較上年同比增長(zhǎng)19.38%；去年第三季度實(shí)現(xiàn)歸母凈利403.61萬元，較上年同比增長(zhǎng)115.10%。
光刻膠是集成電路（IC）制造過程中極為重要的材料，同時(shí)也是一個(gè)技術(shù)壁壘高、產(chǎn)業(yè)高度集中，且有寡頭壟斷的產(chǎn)業(yè)。相比于美日韓發(fā)展幾十年的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，中國(guó)在這方面的基礎(chǔ)相對(duì)薄弱，只能盡全力投入研發(fā)、做足縱深，通過時(shí)間獲得技術(shù)積累，在中高端光刻膠研發(fā)量產(chǎn)上奮起直追。除此之外，研發(fā)費(fèi)用高昂也成為了本土化進(jìn)程中的一道坎，在美對(duì)中實(shí)施實(shí)體清單、日本光刻膠斷供以及近期的美荷日將對(duì)華升級(jí)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制消息的背景下，本土化任重而道遠(yuǎn)。基于此背景，上海新陽也正在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域中貢獻(xiàn)自身力量。去年8月，上海新陽表示，公司自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)銷售，其中通過認(rèn)證的KRF光刻膠產(chǎn)品客戶數(shù)量不斷增加，已進(jìn)入國(guó)內(nèi)主流芯片制造公司，（2022年）6月開始批量連續(xù)供應(yīng)，測(cè)試認(rèn)證中仍有多種產(chǎn)品。ArF光刻膠目前正處于客戶端認(rèn)證階段，未來有很大的增長(zhǎng)空間——
1、集成電路制造用高端光刻膠產(chǎn)品正在開發(fā)中，包括邏輯和模擬芯片制造用的I線光刻膠、KrF光刻膠、ArF干法光刻膠，存儲(chǔ)芯片制造用的KrF厚膜光刻膠，底部抗反射膜（BARC）等配套材料。
2、KrF光刻膠方面，KrF光刻膠產(chǎn)品通過認(rèn)證客戶不斷增加，已在國(guó)內(nèi)主流晶圓制造廠商處實(shí)現(xiàn)供貨，目前已有訂單客戶超3家。
3、ArF光刻膠方面，ArF、ArF-i光刻膠研發(fā)進(jìn)展順利，已經(jīng)形成兩個(gè)系列試驗(yàn)產(chǎn)品，樣品已經(jīng)進(jìn)入客戶端進(jìn)行測(cè)試，此外ArF浸沒式光刻膠產(chǎn)品已有樣品在測(cè)試階段。
4、EUV光刻膠方面，已開始進(jìn)行EUV光刻膠的前期摸索性基礎(chǔ)研發(fā)，EUV光刻膠基本的研發(fā)工作正在進(jìn)行中。
來源：勢(shì)銀膜鏈
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