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中國半導(dǎo)體用光刻膠市場如何？

光刻工藝是半導(dǎo)體晶圓加工中電路布圖的關(guān)鍵步驟，而光刻膠是光刻工藝必不可缺的重要材料。根據(jù)半導(dǎo)體光刻膠的不同應(yīng)用，可以將其分為紫外全譜、g/i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠、EUV光刻膠等。目前，全球光刻膠市場主要被JSR、東京應(yīng)化、杜邦、信越化學(xué)、住友及富士膠片等制造商所壟斷，尤其在半導(dǎo)體光刻膠的高端的KrF和ArF領(lǐng)域，市場集中度更高。

來源：勢銀（TrendBank）

回顧2023年中國大陸半導(dǎo)體市場，由于受疫情、政治博弈、全球經(jīng)濟形勢下行等多重影響，PC、手機、消費電子等板塊銷量大幅下降；縱然汽車電子芯片因“缺芯潮”及國家政策支持在上半年需求旺盛，但隨著汽車芯片產(chǎn)能逐步釋放，下半年車企出現(xiàn)了不同程度的收窄趨勢。整體而言，國內(nèi)半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)處于低谷波動期。

伴隨下游市場疲軟，半導(dǎo)體用光刻膠需求量也相應(yīng)減少，勢銀（TrendBank）預(yù)計2023年中國大陸半導(dǎo)體光刻膠總體需求量為1817.24噸，同比減少12.77%；其中，前五家晶圓制造廠商需求量達到894.65噸，占比49.23%。

但2024年隨著云計算、大數(shù)據(jù)、AI、自動駕駛等新興領(lǐng)域的快速發(fā)展，算力芯片的效能要求逐步加強，多重挑戰(zhàn)和趨勢下，半導(dǎo)體行業(yè)將不斷探索新的發(fā)展路徑，半導(dǎo)體用光刻膠需求量及性能也將隨之提升，尤其是高分辨率光刻膠以及厚膜光刻膠產(chǎn)品。

在半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品升級過程中的不同技術(shù)要求中，G線與I線屬于傳統(tǒng)光刻膠，基于酚醛樹脂體系，提供成膜性及抗刻蝕性能；KrF感光能力與透光性提升，解決248nm波長下透光性問題并對光信號進行放大；ArF作為無苯環(huán)化學(xué)放大型光刻膠，采用化學(xué)放大機理，提升無苯環(huán)材料抗刻蝕能力；EUV屬于新材料體系光刻膠，利用金屬氧化物提高感光速度、抗刻蝕能力。隨著光刻膠工藝分辨率逐步提升，不斷促進集成電路制程先進化。

基于此，勢銀膜鏈特別整理g/i線、KrF、ArF、EUV半導(dǎo)體光刻膠的相關(guān)應(yīng)用情況。

G/I線光刻膠

G/I線光刻膠主要用于成熟制程晶圓制造，由于功率半導(dǎo)體的火熱，G/I線光刻膠包括紫外負(fù)膠市場需求量呈現(xiàn)增長趨勢。市場規(guī)模上，G/I線共占整個半導(dǎo)體光刻膠的16.1%。

來源：勢銀（TrendBank）

KrF光刻膠

目前，KrF光刻膠市場需求量呈現(xiàn)逐年增長態(tài)勢，一方面成熟制程仍然是大部分產(chǎn)業(yè)的首選，另一方面存儲芯片廠的新技術(shù)開發(fā)，層數(shù)的堆疊也帶來KrF光刻膠需求的增長。在市場規(guī)模上，KrF共占整個半導(dǎo)體光刻膠的37.44%。

來源：勢銀（TrendBank）

當(dāng)下，中國大陸能夠批量供應(yīng)的半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品最高做到KrF（248nm）光刻膠，部分KrF光刻膠能夠滿足應(yīng)用的需求。目前大陸企業(yè)KrF光刻膠量產(chǎn)的有上海彤程、晶瑞股份、徐州博康、上海飛凱等。

ArF光刻膠

ArF光刻膠是中國國內(nèi)能夠使用的最高端的光刻膠，大陸光刻膠企業(yè)尚無一家能夠批量供應(yīng)的實力。相比于I線、G線光刻膠，ArF光刻膠技術(shù)難度更大，地位也更加重要。對晶圓廠來說替換風(fēng)險更高，對光刻膠企業(yè)來說不良風(fēng)險大。

來源：勢銀（TrendBank）

對于晶圓廠，ArF光刻膠切換成本十分高昂，而中小規(guī)模的大陸光刻膠企業(yè)風(fēng)險承擔(dān)能力不足以覆蓋，產(chǎn)品技術(shù)能力、量產(chǎn)擴產(chǎn)能力不足以打消晶圓廠疑慮。目前大多Arf光刻膠企業(yè)處于研發(fā)階段，少量企業(yè)處于驗證階段或?qū)崿F(xiàn)出貨。

EUV光刻膠

半導(dǎo)體光刻膠是技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，在EUV光刻膠上由于美國對華的半導(dǎo)體制裁政策不斷升級，在終端和原材料上都難有技術(shù)和裝備的進展。

荷蘭阿斯麥（ASML）在光刻機制造中是當(dāng)之無愧的巨頭，市占率90%以上，而且是全球唯一能供應(yīng)EUV光刻機的設(shè)備商。在美國主導(dǎo)的《瓦森納協(xié)定》協(xié)議的影響下，高端裝備如EUV光刻機對中國大陸的出口受到嚴(yán)格限制，2022年全年ASML出貨EUV光刻機40臺，無一臺出往中國大陸。中國大陸EUV光刻膠方面處于大面積的技術(shù)空白。

中國半導(dǎo)體用光刻膠企業(yè)產(chǎn)能布局（部分）

針對國內(nèi)半導(dǎo)體用光刻膠產(chǎn)品產(chǎn)能布局， 勢銀（TrendBank）2023年調(diào)研統(tǒng)計整理了16家中國大陸半導(dǎo)體用光刻膠相關(guān)企業(yè)的設(shè)計產(chǎn)能布局，分別為彤程新材、晶瑞電材、博康化學(xué)、艾森股份、欣奕華、上海新陽、星泰克、容大感光、飛凱材料、恒坤股份、南大光電、鼎龍股份、國科天驥、艾深斯、理碩科技、珠海基石。

來源：勢銀（TrendBank），*備注：排名不分先后

來源：勢銀膜鏈

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