國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備重大突破：涂膠顯影機(jī)已與EUV光
由于起步較晚，中國在半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域較為落后，若想實(shí)現(xiàn)突破芯片封鎖，首先就必須擺脫制造設(shè)備的依賴。比如大家熟知的EUV光刻機(jī)，全球只有荷蘭的ASML公司能夠生產(chǎn)。近些年，我國相關(guān)企業(yè)一直在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域加大研發(fā)投入力度，并取得了一系列成績。繼清華大學(xué)突破光源技術(shù)后，國產(chǎn)EUV光刻機(jī)已經(jīng)躍然紙上。蝕刻機(jī)方面，中微半導(dǎo)體已達(dá)到全球領(lǐng)先水準(zhǔn)；離子注入機(jī)方面，中國電科實(shí)現(xiàn)了全譜系國產(chǎn)化。可以預(yù)見的是，即便我們不能迅速地實(shí)現(xiàn)科技自主，但國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)已經(jīng)步入了快車道，各細(xì)分領(lǐng)域的頭部企業(yè)都在發(fā)力，那些壟斷技術(shù)設(shè)備正在一個(gè)個(gè)地被攻克。
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近日，業(yè)界再次傳來國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的好消息。芯源微公司已經(jīng)完成了涂膠顯影機(jī)設(shè)備的技術(shù)攻關(guān)，核心技術(shù)問題已經(jīng)解決。除了與日本佳能、上海微電子的光刻機(jī)達(dá)成聯(lián)機(jī)應(yīng)用協(xié)議外，與荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)也已完成對接！前道涂膠顯影機(jī)是芯片制造鏈中必不可少的設(shè)備，是光刻機(jī)進(jìn)行光刻的前道工序，主要用途是負(fù)責(zé)對晶圓涂抹光刻膠，其工藝精度很大程度上決定了生產(chǎn)出來芯片的良品率。此前一直被日、美等企業(yè)壟斷。雖然芯源微自研的前道涂膠顯影機(jī)還沒有達(dá)到全球最頂尖的水平，但是差距并不大，完全可以實(shí)際應(yīng)用。這意味著，我們無需擔(dān)心該設(shè)備在未來是否會被斷供。
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總體來看，我國的芯片制造產(chǎn)業(yè)鏈上并沒有偏科現(xiàn)象，什么設(shè)備都有，但在性能方面，與國際巨頭還有差距。技術(shù)設(shè)備的研發(fā)并非一朝一夕，我們由于起步晚落下的功課已經(jīng)在加班加點(diǎn)地補(bǔ)了。而且，經(jīng)過這段刻骨銘心的“卡脖子”之痛，國產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)徹底走出了“拿來主義”的溫室，開始注重自研、注重創(chuàng)新。另外，國家政策的扶持，給國產(chǎn)半導(dǎo)體的茁壯成長提供了肥沃的土壤，在芯片國產(chǎn)化浪潮的推動下，我們已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了最艱難的從0到1，至于接下來的從1到99，相信會來得更快。
來源：信創(chuàng)咨詢
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